賽默飛掃描電鏡結(jié)合了全面的成像性能和*的環(huán)境模式，同時(shí)兼容廣泛的硬件和軟件選型，可滿(mǎn)足多用戶(hù)實(shí)驗(yàn)室的綜合應(yīng)用需求。支持掃描預(yù)設(shè)、便捷的相機(jī)導(dǎo)航更進(jìn)一步提升了生產(chǎn)力、數(shù)據(jù)質(zhì)量和易用性。多種檢測(cè)器選項(xiàng)的定向背散射探測(cè)器、STEM、陰極熒光探測(cè)器等功能，探測(cè)器信號(hào)同步采集和顯示，可以在最短的時(shí)間內(nèi)提供答案。此外，ESEM可以在現(xiàn)實(shí)條件下對(duì)樣品進(jìn)行原位研究，例如在濕潤(rùn)、高溫、潮濕或反應(yīng)性環(huán)境中的樣品觀察
賽默飛掃描電鏡有三種真空模式，使得系統(tǒng)靈活性*，可以容納任何SEM可用的*泛的樣品類(lèi)型，包括放氣的、未鍍導(dǎo)電膜的或者是與真空狀態(tài)不相容的樣品。它同時(shí)支持相對(duì)的雙能譜(EDS)探測(cè)器、共面能譜(EDS)、電子背散射衍射(EBSD)和平行束波譜(WDS)探測(cè)器。分析樣品倉(cāng)可以滿(mǎn)足日益增長(zhǎng)的樣品元素信息及晶體結(jié)構(gòu)分析需求。
賽默飛掃描電鏡具有幾下幾個(gè)特點(diǎn)：
1.在自然狀態(tài)下對(duì)材料進(jìn)行原位研究：在各種操作模式下分析導(dǎo)電和不導(dǎo)電樣品，同步獲取二次電子像和背散射電子像。
2.大程度縮短樣品制備時(shí)間：低真空和環(huán)境真空技術(shù)可針對(duì)不導(dǎo)電和/或含水樣品直接成像和分析，樣品表面無(wú)荷電累積。
3.觀察所有樣品獲取全面的信息，在每種操作模式下均可同時(shí)進(jìn)行SE和BSE成像。
4.優(yōu)益的不導(dǎo)電樣品分析功能：借助多級(jí)穿過(guò)透鏡的真空系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)低真空下的高質(zhì)量EDS和EBSD分析。
5.高精度優(yōu)中心樣品臺(tái)，可多方位觀察樣品。
6.軟件直觀、簡(jiǎn)便易用，配置用戶(hù)向?qū)Ъ俺蜂N(xiāo)功能，新手用戶(hù)可進(jìn)行高效操作，專(zhuān)家用戶(hù)也可進(jìn)行更少的操作，完成快速分析。
